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【兆恒機(jī)械】光刻膠基礎(chǔ)知識(shí)

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  • 添加日期:2021年03月19日

光刻膠也稱光致抗蝕劑(Photoresist,P.R.)。

1.光刻膠類型

凡是在能量束(光束、電子束、離子束等)的照射下,以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為負(fù)性光刻膠,簡(jiǎn)稱負(fù)膠。

凡是在能量束(光束、電子束、離子束等)的照射下,以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為正性光刻膠,簡(jiǎn)稱正膠。

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1.光刻膠特性

靈敏度

靈敏度太低會(huì)影響生產(chǎn)效率,所以通常希望光刻膠有較高的靈敏度。但靈敏度太高會(huì)影響分辨率。通常負(fù)膠的靈敏度高于正膠。

分辨率

光刻工藝中影響分辨率的因素有:光源、曝光方式和光刻膠本身(包括靈敏度、對(duì)比度、顆粒大小、顯影時(shí)的溶脹、電子散射等)。通常正膠的分辨率要高于負(fù)膠。

2.光刻膠材料

光刻膠通常有三種成分:感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時(shí)還包括增感劑。

3.1負(fù)性光刻膠

主要有聚肉桂酸系(聚酯膠)和環(huán)化橡膠系兩大類。

3.2正性光刻膠

主要以重氮醌為感光化合物,以酚醛樹脂為基體材料。最常用的有AZ 系列光刻膠。正膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高,缺點(diǎn)是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。

3.3 負(fù)性電子束光刻膠

為含有環(huán)氧基、乙烯基或環(huán)硫化物的聚合物。

3.4 正性電子束光刻膠

主要為甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮類這三種聚合物。最常用的是PMMA膠。PMMA膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高。主要缺點(diǎn)是靈敏度低,在高溫下易流動(dòng),耐干法刻蝕性差。

3.雙層光刻膠技術(shù)

隨著線條寬度的不斷縮小,為了防止膠上圖形出現(xiàn)太大的深寬比,提高對(duì)比度,應(yīng)該采用很薄的光刻膠。但薄膠會(huì)遇到耐蝕性的問題。由此出現(xiàn)了雙層光刻膠技術(shù),也就是超分辨率技術(shù)的組成部分。